工业清洗剂

晶圆清洗Q101

面向半导体晶圆及精密电子材料的清洗剂,用于去除微粒与有机残留,满足精密表面清洁需求。

产品概述

产品概述

面向半导体晶圆及精密电子材料的清洗剂,用于去除微粒与有机残留,满足精密表面清洁需求。

核心优势

核心优势

01

晶圆级精密清洗

02

去除微粒与有机残留

03

不损伤晶圆表面

04

适配半导体工艺

05

高纯度配方

适用范围

适用范围

适用于金属、精密零部件及工业设备在加工、装配、维护过程中的油污、粉尘、蜡质或残留物处理。可结合实际工件材质与设备条件制定清洗方案。

使用建议

使用建议

建议先进行小范围试样,确认清洗效果及材料相容性后再投入批量使用。具体浓度、温度、时间与清洗方式,请以麒瑞工程师提供的现场技术方案为准。

技术参数

技术参数

适用对象 半导体晶圆
产品类型 精密清洗剂
功能 去微粒、有机残留
包装 洁净包装
1V1 驻场技术支持 • 24小时响应打样

需要专属的工业化学品定制方案?

不论是特殊的清洗除垢难题、复杂基材脱模需求,还是高难度极压切削加工,麒瑞技术团队竭诚为您解答。